RbTiOPO4(RTP)晶体是一种综合性能优良的非线性光学晶体材料。RTP是目前最常用的实用电光晶体类型，具有高频重复、高功率、窄脉冲宽度的激光Q switching。RTP光电器件以其优异的综合性能，不仅应用于激光微加工和激光测距，而且还应用于重大科研项目中。
RbTiOPO4(RTP)是一种非线性光学系数大、电光系数大、光刻胶损伤阈值高、物理化学性质稳定的晶体
生长温度950℃~ 800℃，生长周期一般在45 ~ 60天。从0.4到3.5 μm RTP是透明的,它可以用来在急诊室等多种类型的激光:掺钕钇铝石榴石激光器在2.94 μm相当不错的效率。大量吸收测量1.064μm从50到150 ppm干涉仪利用光热光谱分析常见的路径。
| 伤害阈值高 | 在10 Hz下> 15J/cm2,1064 nm处10 ns，在10 mm长的涂覆晶体上进行 |
| 低工作电压 | Y切割为1300 V，1064 nm为X切割为1600 V，光圈为4×4 mm²，长度为2×10 mm |
| 低体积吸收 | 在1064 nm处<250 ppm/cm |
| 化学式 | RbTiOPO4 |
| 水晶结构 | 正交 |
| 点组 | mm2 |
| 格子参数，Å | a 12.96 |
| b 10.56 | |
| c 6.49 | |
| 密度，g.cm-3 | 3.6 |
| 电阻率(20 °C，湿度20％)欧姆.mm | 10 ^ 12 |
| 光圈，mm2 | 从2×2到9×9 |
| 长度，mm | 高达10 |
| 尺寸公差 | 为±0.1mm |
| 平整度 | <l/8 @ 633nm |
| 表面质量 | Scratch / Dig 10/5 |
| 排比 | 优于30 arc sec |
| 直立 | 优于30 arc min |
| 角度公差 | △q <0.5°，△f <0.5° |
| 镀膜 | 增透膜 |
| 光圈清晰 | > 90％的中心区域 |
| 传输波前失真 | 低于1/8 @ 633 nm 尺寸 |
| 熔点 | ~1000°C |
| 铁电转变温度 | 〜810℃ |
| 莫氏硬度 | 〜5 |
| 热膨胀系数，/°C | a1 = 1.01×10 ^ -5，a2 = 1.37×10 ^ -5，a3= -4.17×10 ^ -6 |
| 吸湿性易感性 | 没有 |
| 离子电导率（室温，10 kHz） | 10 ^ -8 S / cm |
| 平均折射率 | 1.8 | ||||||
| Sellmeier方程中的系数为0.5 <λ<3.5 μm | Ai | Bi | Ci | Di | Ei | pi | qi |
| 2.1982 | 0.8995 | 0.2152 | 1.5433 | 11.585 | 1.9727 | 1.9505 | |
| 2.2804 | 0.8459 | 0.2296 | 1.1009 | 9.66 | 1.9696 | 1.9369 | |
| 2.3412 | 1.0609 | 0.2646 | 0.9714 | 8.149 | 2.0585 | 2.0038 | |
| 透明度范围，μm | 0.35→4.5 | ||||||
| 残留吸收（PCI）在1064nm | <250 ppm /cm | ||||||
| 电光常数（@ 633 nm，1 kHz），pm。 V-1 | r13 | 10.9 | |||||
| r23 | 15 | ||||||
| r33 | 33 | ||||||
| 介电常数 | εeff= 13 |
